Patent- und Designrecht

InhaltArbeitnehmererfindungsG, Biomaterial-HinterlegungsVO, DesignG, Einheitliches PatentgerichtÜbK, Europäisches PatentÜbK, GebrauchsmusterG, G über intern. PatÜbk, Haager Abkommen (Hinterlegung), HalbleiterschutzG, PatentVO, PatentG, PatentkostenG, Pariser Verbandsübereinkunft, SortenschutzG, TRIPSNeuauflageDie 18. Auflage enthält die neue EG-MusterschutzRL und berücksichtigt u.a. Änderungen des PatentG, der AusführungsO zum EPÜ, des EPGÜ, der Gem.-GeschmacksmusterVO und der HaagAbkAOZielgruppeFür Behörden, Richterinnen und Richter, Rechtsanwältinnen und Rechtsanwälte sowie Unternehmen.